安陽(yáng)膜厚儀的用途和特點(diǎn)

針對靶丸自身獨特的特點(diǎn)及極端實(shí)驗條件需求，使得靶丸參數的測試工作變得異常復雜。如何精確地測定靶丸的光學(xué)參數，一直是激光聚變研究者非常關(guān)注的課題。由于光學(xué)測量方法具有無(wú)損、非接觸、測量效率高、操作簡(jiǎn)便等優(yōu)越性，靶丸參數測量通常采用光學(xué)測量方式。常用的光學(xué)參數測量手段很多，目前，常用于測量靶丸幾何參數或光學(xué)參數的測量方法有白光干涉法、光學(xué)顯微干涉法、激光差動(dòng)共焦法等。靶丸殼層折射率是沖擊波分時(shí)調控實(shí)驗研究中的重要參數，因此，精密測量靶丸殼層折射率十分有意義。而常用的折射率測量方法[13]，如橢圓偏振法、折射率匹配法、白光光譜法、布儒斯特角法等。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實(shí)現對薄膜厚度的在線(xiàn)檢測和自動(dòng)控制。安陽(yáng)膜厚儀的用途和特點(diǎn)

利用包絡(luò )線(xiàn)法計算薄膜的光學(xué)常數和厚度，但目前看來(lái)包絡(luò )法還存在很多不足，包絡(luò )線(xiàn)法需要產(chǎn)生干涉波動(dòng)，要求在測量波段內存在多個(gè)干涉極值點(diǎn)，且干涉極值點(diǎn)足夠多，精度才高。理想的包絡(luò )線(xiàn)是根據聯(lián)合透射曲線(xiàn)的切點(diǎn)建立的，在沒(méi)有正確方法建立包絡(luò )線(xiàn)時(shí)，通常使用拋物線(xiàn)插值法建立，這樣造成的誤差較大。包絡(luò )法對測量對象要求高，如果薄膜較薄或厚度不足情況下，會(huì )造成干涉條紋減少，干涉波峰個(gè)數較少，要利用干涉極值點(diǎn)建立包絡(luò )線(xiàn)就越困難，且利用拋物線(xiàn)插值法擬合也很困難，從而降低該方法的準確度。其次，薄膜吸收的強弱也會(huì )影響該方法的準確度，對于吸收較強的薄膜，隨干涉條紋減少，極大值與極小值包絡(luò )線(xiàn)逐漸匯聚成一條曲線(xiàn)，該方法就不再適用。因此，包絡(luò )法適用于膜層較厚且弱吸收的樣品。咸寧膜厚儀廠(chǎng)家白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實(shí)現對薄膜的快速測量和分析。

對同一靶丸相同位置進(jìn)行白光垂直掃描干涉，圖4-3是靶丸的垂直掃描干涉示意圖，通過(guò)控制光學(xué)輪廓儀的運動(dòng)機構帶動(dòng)干涉物鏡在垂直方向上的移動(dòng)，從而測量到光線(xiàn)穿過(guò)靶丸后反射到參考鏡與到達基底直接反射回參考鏡的光線(xiàn)之間的光程差，顯然，當一束平行光穿過(guò)靶丸后，偏離靶丸中心越遠的光線(xiàn)，測量到的有效壁厚越大，其光程差也越大，但這并不表示靶丸殼層的厚度，當垂直穿過(guò)靶丸中心的光線(xiàn)測得的光程差才對應靶丸的上、下殼層的厚度。

微納制造技術(shù)的發(fā)展推動(dòng)著(zhù)檢測技術(shù)向微納領(lǐng)域進(jìn)軍，微結構和薄膜結構作為微納器件中的重要組成部分，在半導體、醫學(xué)、航天航空、現代制造等領(lǐng)域得到了廣泛的應用，由于其微小和精細的特征，傳統檢測方法不能滿(mǎn)足要求。白光干涉法具有非接觸、無(wú)損傷、高精度等特點(diǎn)，被廣泛應用在微納檢測領(lǐng)域，另外光譜測量具有高效率、測量速度快的優(yōu)點(diǎn)。因此，本文提出了白光干涉光譜測量方法并搭建了測量系統。和傳統白光掃描干涉方法相比，其特點(diǎn)是具有較強的環(huán)境噪聲抵御能力，并且測量速度較快。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應用于光學(xué)涂層中的薄膜反射率測量。

與激光光源相比以白光的寬光譜光源由于具有短相干長(cháng)度的特點(diǎn)使得兩光束只有在光程差極小的情況下才能發(fā)生干涉因此不會(huì )產(chǎn)生干擾條紋。同時(shí)由于白光干涉產(chǎn)生的干涉條紋具有明顯的零光程差位置避免了干涉級次不確定的問(wèn)題。本文以白光干涉原理為理論基礎對單層透明薄膜厚度測量尤其對厚度小于光源相干長(cháng)度的薄膜厚度測量進(jìn)行了研究。首先從白光干涉測量薄膜厚度的原理出發(fā)、分別詳細闡述了白光干涉原理和薄膜測厚原理。接著(zhù)在金相顯微鏡的基礎上構建了型垂直白光掃描系統作為實(shí)驗中測試薄膜厚度的儀器并利用白光干涉原理對的位移量進(jìn)行了標定。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以對不同材料的薄膜進(jìn)行聯(lián)合測量和分析。咸寧膜厚儀廠(chǎng)家

白光干涉膜厚測量技術(shù)的研究需要對光學(xué)理論和光學(xué)儀器有較深入的了解。安陽(yáng)膜厚儀的用途和特點(diǎn)

薄膜作為重要元件，通常使用金屬、合金、化合物、聚合物等作為其主要基材，品類(lèi)涵蓋光學(xué)膜、電隔膜、阻隔膜、保護膜、裝飾膜等多種功能性薄膜，廣泛應用于現代光學(xué)、電子、醫療、能源、建材等技術(shù)領(lǐng)域。常用薄膜的厚度范圍從納米級到微米級不等。納米和亞微米級薄膜主要是基于干涉效應調制的光學(xué)薄膜，包括各種增透增反膜、偏振膜、干涉濾光片和分光膜等。部分薄膜經(jīng)特殊工藝處理后還具有耐高溫、耐腐蝕、耐磨損等特性，對通訊、顯示、存儲等領(lǐng)域內光學(xué)儀器的質(zhì)量起決定性作用[1-3]，如平面顯示器使用的ITO鍍膜，太陽(yáng)能電池表面的SiO2減反射膜等。微米級以上的薄膜以工農業(yè)薄膜為主，多使用聚酯材料，具有易改性、可回收、適用范圍廣等特點(diǎn)。例如6微米厚度以下的電容器膜，20微米厚度以下的大部分包裝印刷用薄膜，25~38微米厚的建筑玻璃貼膜及汽車(chē)貼膜，以及厚度為25~65微米的防偽標牌及拉線(xiàn)膠帶等。微米級薄膜利用其良好的延展、密封、絕緣特性，遍及食品包裝、表面保護、磁帶基材、感光儲能等應用市場(chǎng)，加工速度快，市場(chǎng)占比高。安陽(yáng)膜厚儀的用途和特點(diǎn)

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